電子科技
發布者：admin
2019-07-02 03:41:23 |
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在電子科技領域應用水的要求都非常高，一般都是用到超純水，符合超純水的嚴格標準而經過特殊處理以便達到高效能和低TOC，出水水質都能達到18兆歐以上，以及對TOC、SIO2都有一定的控制能力。這就需要用到特定的拋光樹脂來保證系統出水水質能夠維持用水標準。
超純水制備都需要到拋光樹脂，拋光樹脂的均勻粒徑使混合床的動力學性能最大化，允許使用高工作流速以實現壓降和純度的最終平衡。其特性對于用最少量的漂洗水生產具有可達到的最高純度的水是必不可少的。用于特殊電子應用，如磁盤驅動器，顯示設備，CD-ROM，分立半導體器件，低密度IC芯片的制造，或在后端芯片切割和安裝操作。由于其高水平的再生，以經濟地生產高純度水。
電子科技超純水設備技術參數
系統產量：≥0.5T/H
系統水質：水質符合美國ASTM標準，電子工業部超純水水質標準18MΩ•cm，15MΩ•cm，10MΩ•cm，2MΩ•cm和0.5MΩ•cm五級
電子科技超純水設備工藝流程
1、0.5~1MΩ•cm制水工藝流程：
原水→過濾器→增壓泵→一級反滲透→PH調節系統→中間水箱→二級反滲透→純化水箱→純水泵→用水點
2、2MΩ•cm制水工藝流程：
原水→過濾器→增壓泵→一級反滲透→混床→純水箱→純水泵→用水點
3、10~15MΩ•cm制水工藝流程：
原水→過濾器→增壓泵→一級反滲透→PH調節系統→中間水箱→二級反滲透→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→EDI裝置→純化水箱→純水泵→用水點
4、18MΩ•cm制水工藝流程：
原水→過濾器→增壓泵→一級反滲透→PH調節系統→中間水箱→二級反滲透→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→EDI裝置→純化水箱→純水泵→樹脂精制混床→用水點
系統產量：≥0.5T/H
系統水質：水質符合美國ASTM標準，電子工業部超純水水質標準18MΩ•cm，15MΩ•cm，10MΩ•cm，2MΩ•cm和0.5MΩ•cm五級
電子科技超純水設備工藝流程
1、0.5~1MΩ•cm制水工藝流程：
原水→過濾器→增壓泵→一級反滲透→PH調節系統→中間水箱→二級反滲透→純化水箱→純水泵→用水點
2、2MΩ•cm制水工藝流程：
原水→過濾器→增壓泵→一級反滲透→混床→純水箱→純水泵→用水點
3、10~15MΩ•cm制水工藝流程：
原水→過濾器→增壓泵→一級反滲透→PH調節系統→中間水箱→二級反滲透→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→EDI裝置→純化水箱→純水泵→用水點
4、18MΩ•cm制水工藝流程：
原水→過濾器→增壓泵→一級反滲透→PH調節系統→中間水箱→二級反滲透→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→EDI裝置→純化水箱→純水泵→樹脂精制混床→用水點
